1、最后将金刚石薄膜和类金刚石薄膜进行了简单比较。
2、成功地用该设备制备出类金刚石薄膜。
3、标签类金刚石薄膜红外界面。
4、喇曼光谱研究表明，这种薄膜是典型的无*类金刚石薄膜。
5、本论文采用电弧离子镀技术，纯氩气气氛下，在AZ合金上制备了类金刚石薄膜及钛掺杂类金刚石薄膜。
6、文中还提出了在类金刚石薄膜进一步开发、研究及应用中仍需解决的一些工艺及技术问题，描述了制备大尺寸均匀*类金刚石薄膜的可行*方案。
7、为了满足制备较厚低摩擦系数类金刚石薄膜（DLC）耐磨镀层的实际需求，对在等离子增强化学气相沉积的类金刚石薄膜（W-DLC）中掺钨进行了系统研究。
8、本文给出了华北光电所研究类金刚石薄膜的结果。
9、利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜.
10、分析了类金刚石薄膜的硬度和工艺参数的关系，讨论了薄膜的耐磨*和化学稳定*。
11、为了改善DLC膜的*能，掺金属的类金刚石薄膜从而成为人们研究的重点。
12、研究了利用低能离子束技术，在单晶硅片等多种基体表面形成类金刚石薄膜（DLC膜）。
13、类金刚石薄膜是80年代初出现的新型非金属薄膜材料之一，目前已受到了人们广泛的注视并引起了人们的极大兴趣。
14、采用过滤*极电弧沉积方法有可能制成无宏观粒子的类金刚石薄膜。
15、采用*频-直流等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅衬底上沉积了类金刚石薄膜
16、并论述不同工作参数的激光对类金刚石薄膜的激光破坏行为及其损伤阈值。
17、利用脉冲真空电弧镀的方法，在硅基底上沉积类金刚石薄膜，研究薄膜的光学*能、光学常数和离子能量关系。
18、采用SP0806AS中频磁控溅*镀膜机，在硅(100)和高速钢基体上，采用双石墨靶在不同功率下沉积了类金刚石薄膜。
19、探讨了用液相电解沉积法在钛合金表面制备类金刚石薄膜的新方法。 讨论了不同沉积条件对膜的影响。
20、利用电子回旋共振（ECR）微波等离子体辅助化学气相沉积技术、工作气氛为**，在光学玻璃衬底上得到了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜。
21、本文通过实验表明采用电化学淀积法，选择合适的电解质溶液和制备工艺条件，可以在液相中获得类金刚石薄膜。
22、类金刚石薄膜具有负电子亲和势且易制备，作为冷*极场发*材料在平板显示领域有潜在的应用价值而引起了人们的极大兴趣。
