介绍了等离子体化学工艺，特别着重介绍了溅*镀膜与等离子体化学气相沉积在粉末冶金中的应用。
大电流热*极辉光放电用于等离子体化学气相沉积金刚石膜，有效地提高了沉积速率和膜品质。
从宏观粒子和微观粒子的输运现象及等离子体化学入手，建立了宏观粒子沉降过程中的纯化模型。
除了传统的由TiO2作为成反*膜的工艺外,由等离子体化学气相沉积法(PECVD)制作的SiN是很有效的减反*膜,又是有效的表面钝化膜。
研究了在热*极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中，热*极辉光放电特*与金刚石膜沉积工艺的关系。
