等离子体源离子注入技术是一种新型的非视线的离子注入材料表面改*技术。
等离子体浸没离子注入是一种新形式的离子注入技术，是利用负偏压工件周围形成的等离子体鞘层进行离子加速、进而获得离子注入。
利用多级离子注入技术，一种新型的cmos四值译码器与编码器被设计。
报道了利用离子注入技术研制出一种用于手机的超低*损砷化镓单片*频单*双掷开关
利用离子注入技术，对稀土掺杂到半导体单晶硅中的光致发光行为进行了研究。
一百现在，离子注入技术已被应用于生物改良、生命起源和进化以及环境辐*生物学效应等多个理论和应用研究领域。
